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韓国人「昇進に落ちたら中国に半導体技術を流出させた男、2審も実刑」→「売国奴には懲役2年は軽すぎる！」
裁判所「業界に警鐘を鳴らし、類似犯罪を防ぐべき」
半導体ウェハー研磨（CMP）関連技術を中国に流出したとして起訴された国内企業元従業員らに実刑が言い渡されました。
大田高裁第1-1刑事部（パク・ジンファン部長判事）は本日（19日）、産業技術の流出防止および保護に関する法律違反などの容疑で起訴された国内某企業の元研究員である50代のA氏に対し、一審と同じ懲役2年6ヶ月を言い渡しました。
共に起訴された共犯2名には、一審より重い懲役1年6ヶ月、懲役2年・罰金2千万ウォンがそれぞれ言い渡されました。
A氏らは2019年から2020年にかけて、コンピューターや業務用携帯電話で会社内部ネットワークに接続し、半導体ウェハー研磨工程図などの会社機密資料を閲覧しながら、個人携帯電話で撮影するなどの手口で入手した資料を中国企業に流出した疑いで裁判にかけられました。
主犯であるA氏は、2018年に役員昇進に落選した後、2019年6月に中国企業と半導体ウェハー研磨剤（CMPスラリー）製造事業を共同で行うことを約束。その後も会社に勤務しながら、メッセンジャーなどを通じて中国での研磨剤生産設備構築・事業を管理していたことが明らかになりました。
その後、他の会社の研究員である一部の共犯者らを勧誘し、中国に転職させていました。
一審裁判所は、「被害企業が技術研究・開発に投じた多大な努力と費用を無駄にし、関連分野の健全な競争と取引秩序を深刻に阻害し、国家産業競争力に悪影響を与える重大な犯罪である」とし、A氏に懲役2年6ヶ月を言い渡しました。
共犯2名はそれぞれ懲役2年、執行猶予3年、懲役1年6ヶ月、執行猶予2年を言い渡されていました。
控訴審裁判所は、A氏に対する双方の控訴を全て棄却し、共犯らの刑が軽すぎるという検察の主張を受け入れました。
二審裁判所は、「計画的かつ組織的な犯罪であり、半導体業界全体に警鐘を鳴らし、今後類似犯罪を防ぐ必要がある」とし、「流出した資料が国家核心技術に該当しないという被告人らの主張は受け入れられない」と判示しました。
引用元記事:https://n.news.naver.com/article/057/0001954653
